Un fort taux de radiation peut détériorer le substrat à la fois en profondeur et en surface. Les détériorations en profondeur résultent du déplacement ou de l'éjection d'atomes du réseau cristallin suite à des collisions directes entre les hadrons ou les fragments nucléaires et les atomes de silicium. Les sites inoccupés et les atomes libérés modifient les propriétés du semiconducteur comme la durée de vie des porteurs, ce qui entraîne :
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Quant aux détériorations surfaciques, elles sont principalement dues au piégage des charges à l'interface oxyde-silicium, ce qui provoque une augmentation de la capacité interpiste et conduit donc à une augmentation du bruit.
Pour limiter les risques de claquage et réduire le courant de fuite, le trajectographe de CMS sera placé à -10
de façon permanente. La réduction du dopage entraînera une inversion du type de silicium (après
10 ans de LHC) et demandera l'utilisation de tension de plus en plus importante pouvant aller jusqu'à plusieurs centaines de volts (
500 V).